电感耦合等离子体质谱仪 根据您的需求量身定制版ICP-MS

  • 超高灵敏度: 灵敏度【cps/ppm】低质量数:7Li ≥100 M,中质量数:115In ≥500 M,高质量数:238U ≥500 M; 氧化物产率(CeO+/Ce+):≤1.8 %
  • 最低运行成本:氩气消耗降低50%
  • 高效:样品分析速率提升 50%
  • 稳定:轻松应对各种复杂基体,确保优异的长期稳定性
  • 灵活:根据不同应用多样化配置仪器

电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)由于其独有的分析速度快、灵敏度高、适用性广等特点,在诸多行业都成为了标准的分析方法。德国耶拿PlasmaQuant MS系列ICP-MS在可靠性、精密度及样品通量等诸多方面均超出业界预期,在简化样品前处理、分析方法稳健性及合规性等方面完全贴合用户需求。

高灵敏度和最快的分析速度

PlasmaQuant MS 无与伦比的灵敏度可显著提高样品分析效率降低单样品分析成本。专利设计的ICP-MS分析确保在极短的积分时间或大比例稀释的前提下,依然可以获得最低的检出限和恒定的分析速率。这就保证了最大的样品通量、分析结果的长期稳定性及重复性,并显著减少日常维护频率。

  • 最佳检出限

  • 高样品通量

  • 显著降低样品前处理工作量

  • 出色的长期稳定性

  • 低维护

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业内领先的分析性能和最低使用成本

PlasmaQuant MS无以伦比的高灵敏度实现了业内最低检测限。卓越的质谱分辨率和低丰度同位素最佳检测灵敏度使PlasmaQuant MS在超低痕量分析、超低浓度形态分析、直径小于10nm的单纳米颗粒物分析和高精密度同位素比值分析等应用领域获得最佳的分析结果。PlasmaQuant MS卓越的灵敏度使其能够在确保精密度和重复性的前提下显著缩短分析时间。专利的质谱干扰消除系统iCRC可高效、简洁、快速地消除ICP-MS分析中的质谱干扰,不同气体模式之间的快速切换及专利的BOOST技术,即便应对要求苛刻的样品依然可以轻松获得出色的长期稳定性和业内领先的分析速度。

PlasmaQuant MS降低氩气消耗50%。专利的等离子体聚焦技术在确保极低氧化物产率(<2% CeO+ /Ce+ )的前提下,增强等离子体基体耐受性的同时,等离子气消耗量小于9L/min。检测器在脉冲计数模式下可高达11个数量级(0.1-1010 cps)的动态线性范围,在样品分析时实现了从超低痕量到高浓度的快速准确的多元素分析,并极大的延长检测器的使用寿命。

产品

耐受复杂基体的高灵敏度ICP-MS: PlasmaQuant MS 系列

强劲稳健的分析系统轻松应对各种复杂样品基体获得稳定准确的分析结果: PlasmaQuant MS强劲稳健的等离子体及高效简洁的干扰消除管理系统,简单易用。最小化高基体样品及基体切换时带来的系统漂移。

超高灵敏度、科研级ICP-MS:PlasmaQuant MS Elite 系列

拥有最高灵敏灵和分析性能,系统配置灵活多样可以与多种附件连接后用于尖端科研工作: PlasmaQuant MS Elite通过离子聚焦参数调节、最短驻留时间、最佳质量分辨等实现附件的最优化连接操作。

应用

食品与农业

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应用

环境分析

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应用

石油和天然气

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应用

制药与生命科学

了解更多

应用

技术规格

欲了解更多,请联系德国耶拿>>

专利技术和独特的解决方案

专利的等离子体聚焦技术

从废水到有机样品直接进样分析,PlasmaQuant MS在不断提升分析性能的前提下将ICP-MS的分析成本降至业内最低。专利的等离子体聚焦技术使PlasmaQuant MS等离子体异乎寻常的强劲稳健,轻松应对各种复杂基体。并获得了极低水平的氧化物(<2% CeO+/Ce+)和双电荷(<2% Ba++/Ba+);等离子体射频功率实现业内最宽范围内连续可调(300-1600 W),可根据实际应用需求选择最优化等离子条件。专利的等离子体聚焦技术使PlasmaQuant MS在正常操作条件下,等离子气消耗量小于9L/min

  • 等离子体超乎寻常的强劲稳健

  • 最低的分析成本

  • 接口锥后配备不少于2个独立工作的提取透镜

  • 离子源:射频频率≤27.12 MHz,功率范围300~1600W,射频线圈水冷设计

专利的碰撞反应池iCRC

集成式碰撞反应池iCRC—独特的干扰消除系统使用简单的气体—氦气和氢气,即可高效、简洁、快速的消除ICP-MS 分析中遇到的质谱干扰。可以根据样品基体的不同选择使用两种气体以提高分析数据的准确性。专利的BOOST技术可在使用碰撞反应气的模式下保证待测分析元素的灵敏度和检出限不受影响。

  • 高效去除质谱干扰确保分析结果的准确性

  • 不同模式下快速切换,确保分析效率

  • 针对复杂基体的样品具有出色的长期稳定性

高通量快速分析的保证– ReflexION

PlasmaQuant MS的高灵敏度不仅获得了业内最佳检出限,并在保证分析结果的精密度和重复性的前提下显著缩短分析时间。PlasmaQuant MS高灵敏度的获得主要得益于专利的ReflexION 离子光学系统,实现了对离子束真正意义上的90°反射偏转和3D聚焦。ReflexION 离子光学系统通过抛物面静电场对离子束进行90°反射偏转的同时,不同大小和动能的待分析离子被聚焦在四极杆质量分析器入口。确保在全质量数范围内待分析离子最高的灵敏度及信号值。光子、中性粒子及颗粒穿过抛物面静电场后被真空系统移出质谱仪。

  • 离子束被反射并在四极杆质量分析器入口处聚焦获得业内最高分析灵敏度

  • 光子、中性粒子及颗粒未进入四级杆,获得极低的背景噪声

  • 离子束全三维控制,优化简单

高效灵活的高解析四极杆 – HD Quadrupole

PlasmaQuant MS可准确定量所有已知稳定存在的同位素;真正意义上的高达3 MHz的高解析驱动频率,使得PlasmaQuant MS 获得了理想的质谱分辨能力和业内最佳丰度灵敏度(2.3x10-8 @ m-1 238U);业内领先的质谱扫描速度5115 amu/s及50μs的最小驻留时间。为同位素比值分析、激光烧蚀联用技术及单纳米颗粒物分析提供了最优化的硬件保证。

  • 得益于最佳丰度灵敏度,PlasmaQuant MS获得业内领先的同为素比值分析能力

  • 超快质谱扫描速度,PlasmaQuant MS获得直径小于10nm的纳米颗粒物分析能力

  • 低于0.5cps的背景噪声,PlasmaQuant MS获得业内最佳检出限

  • 四极杆驱动频率:3.0 MHz

灵活、精确的全数字检测器– ADD11

全数字脉冲检测器在脉冲计数模式下即可达到11个数量级(0.1–1010cps)的动态线性范围。一次进样从痕量超痕量一直到主量的多元素分析均可获得快速准确的定量分析结果,并且全数字脉冲检测器在业内具有最长使用寿命。

  • 11个数量级的动态线性范围,实现了真正意义上的宽范围多元素分析

  • 无需频繁的交叉校正,无需繁琐准备,简单易用

  • 长寿命检测器:分析NIST 1643e标样中23种元素,按照每天300个样品,每个月分析20天计算,寿命应不小于10年

等离子体改性附件– Nitrox

全面提升石油化工品等有机样品直接进样分析中Se、As等元素的准确定量分析性能。Nitrox是一款全自动化、MFC控制的等离子体在线加氧加氮装置。氮气通常被用来改善等离子体中待分析离子的电离度、抑制多原子干扰离子的产生和基体效应,进而改善ICP-MS分析的整体性能。在线加氧可应用在有机样品直接进样分析领域,可显著缩短样品前处理的时间。

高TDS样品的高效率分析–Aerosol dilution

高TDS样品分析时,Aerosol dilution气溶胶稀释功能可避免样品复杂的稀释处理,直接分析例如海水等复杂样品。

附件

Aerosol dilution气溶胶稀释附件,适用于PQMS和PQMS Elite

订单号: 810-88512-0

oneFAST 高通量进样系统

订单号: 810-88100-0

高效液相色谱系统PQ LC 不锈钢管路

配置齐全的LC系统,多附件可选。例如:进样系统温控附件、柱温箱温控附件、紫外/可见检测器等。

订单号: 810-88403-0

高效液相色谱系统PQ LC 全惰性PEEK管路

全惰性无金属LC系统,适用于超低浓度元素形态分析

订单号: 810-88409-0

PQ MS前级真空专用降噪盖

订单号: 810-88105-0

前级干式真空泵EDWARDS XDS46i

订单号: 810-88116-0

联用控制触发系统Trigger Box TTL

订单号: 810-88060-0

PQMS标准进样系统启动包

订单号: 810-88518-0

排气用通风软管

订单号: 810-88110-0

氩气加湿附件

订单号: 810-88033-0

极速进样系统Cetac ASXPress Plus

订单号: 810-88017-0

PQMS废气过滤套件

订单号: 810-88104-0

氢化物系统HS Pro PQMS

订单号: 810-88037-0

内标标准套件

订单号: 810-88057-0

斯科特雾室的O形圈

订单号: 418-88079-0

Nitrox升级套件,适用于PQMS和PQMS Elite

订单号: 810-88025-0

惰性进样系统组件,适用于半导体等超低浓度分析

订单号: 810-88058-0

耐HF酸进样系统组件,适用于地球化学类包含HF的样品基体

订单号: 810-88059-0

挥发性有机进样组件,适用于汽油、石脑油等有机溶剂

订单号: 810-88055-0

AAS、ICP-OES、ICP-MS专用称重试验台

订单号: 810-88005-0

高盐雾化器,玻璃,0.4 mL/min

订单号: 418-88092-0

Solvenflex有机进样组件,适用于酒精、煤油等

订单号: 810-88056-0

PQMS耐HF酸进样系统启动包,适用于地球化学类包含HF的样品基体

订单号: 810-88510-0

半导体行业专用耐腐蚀惰性进样安装启动包

订单号: 810-88511-0

有机样品进样安装启动包,适用于有机溶剂和挥发性基体

订单号: 810-88509-0

全自动液体处理工作站Teledyne Cetac SimPrep,配备ASX-560自动进样器

订单号: 810-88019-0

U5000AT+ 超声波雾化系统

订单号: 810-88004-0

冷却水循环器(Labtech)

订单号: 810-88001-0

冷却水循环器(vdH)

订单号: 810-88036-0

氢气发生器

订单号: 810-88026-0

软件

ASpect MS 操作软件

订单号:

PlasmaQuant MS的ASpect MS 操作软件界面直观易用,所有分析数据、质谱扫描图、标准曲线以及数据日志可一键获得。详细的质控动态窗口确保准确分析数据的获得,并提供符合FDA 21 CFR Part 11标准的操作授权和附件安装
得益于多项自动化选项,ASpect MS 操作更简单
  • 自动设置和初始化设置

  • 等离子体矩管位置自动调整

  • 质量校正和分辨率校正

  • AutoMax 功能可使方法编辑优化更简单

  • 在线气溶胶稀释功能轻松应对高TDS样品

  • 专利的BOOST技术,在碰撞反应模式下确保分析数据的灵敏度不损失

产品
耐受复杂基体的高灵敏度ICP-MS: PlasmaQuant MS 系列(818-08010-2)
超高灵敏度、科研级ICP-MS:PlasmaQuant MS Elite 系列(818-08021-2)

耗材

订单号 名称
418-88906-0 内标液:铑、铼 100ppm 100ml
418-88073-0 调谐液:Be, Mg, Co, In, Ba, Pb, Th, Ce, Tl,Bi 250ml, 10ppm
418-88215-0 调谐液:Be, Mg, Co, Ba, Pb, Ce, In,Bi  250ml, 10ppm
418-88074-0 内标液:钪、钇 、铽、铟、 铋 100ppm 100ml
418-88071-0 标准水溶液雾化室
418-88079-0 标准雾化室及雾化器O形圈套件
418-88038-0 采样锥O型圈 (5个/包)
418-88049-0 截取锥O型圈 (5个/包)
418-88060-0 标准矩管(石英一体化, 2.4mm中心喷射管)
418-88070-0 标准雾化器 0.4ml/min
418-88045-0 镍截取锥(iCRC)
418-88046-0 铂金截取锥(iCRC)
418-10-406-251 泵油 SV40 PFP Oil for rotary pump SV40 PFPE, Leybonol LVO 420
418-88042-0 镍采样锥(PQMS)
418-88043-0 铂金采样锥
418-88008-0 排废泵管 ( 适用于有机溶剂,12根/包 蓝/蓝 , 0.065 in. ID)
418-88006-0 进样泵管 ( 有机溶剂推荐使用,12根/包 黑/黑 , 0.03 in. ID)
418-88016-0 进样泵管 ( Viton材质,挥发性有机溶剂推荐使用,12根/包 橘/黄, 0.02 in. ID)
418-88018-0 排废泵管 ( Viton材质,挥发类有机溶剂推荐使用,12根/包 白/白 , 0.04 in. ID)
418-88061-0 矩管(适用于挥发性有机样品, 0.8mm中心喷射管)
418-88062-0 矩管 (适用于有机样品,1.5 mm中心喷射管)
418-13-410-540 循环水添加剂
407-400.057 15ml样品瓶(聚丙烯材质,100支)
407-402.926 50ml样品瓶(聚丙烯材质,30支)
418-88030-0 内标泵管 ( 适用于 水溶液,12根/包 橙/绿 , 0.015 in. ID)
418-88031-0 排废泵管 12根/包 蓝/蓝
418-88029-0 进样泵管 12根/包 黑/黑
418-88075-0 锥和透镜清洁粉(500g)
418-88086-0 Y型三通接头(内标) 5个/包

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标题 语言 档案资料
PlasmaQuant MS ICP-MS领域的新境界 中文 , 8319 KB

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